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深圳后浪实验室长期聚焦于以等离子体物理为基础的物理气相沉积技术（高功率脉冲磁控溅射HiPIMS、常规溅射技术、阴极弧、离子注入、微弧氧化等）、核心装备、等离子体模拟、涂层/薄膜材料与应用方面的研究。

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